Новые полимерные материалы с памятью формы для космических применений
Коллаборация учёных из Байкальского Института Природопользования СО РАН, Сеченовского университета,
НИЦ «Курчатовский институт», ФИЦ Химической физики им. Н.Н. Семенова РАН, Университета Западной
Австралии и МГУ им. М.В. Ломоносова разработали технологию 4D-печати новых полимерных материалов с
памятью формы (SMP). Исследователям удалось определить необходимый состав компонентов: термостабильный поли-N,N’-(м-фенилен)изофталамид (MPA), жёсткий фотополимеризуемый трис[2-
(акрилоилокси)этил] изоцианурат (TAI) и реактивный растворитель (N,N-диметилакриламид (DMAA)). Это
способствовало получению высокотемпературный SMP с рекордными показателями прочности на разрыв
(104.4 МПа) и температуры стеклования (180°C) среди ранее известных 4D-SMP. Дополнительно была
исследована устойчивость материала к γ-излучению (доза 106 Гр). Полученные SMP продемонстрировали
химическую и механическую устойчивость к ионизирующему облучению, что открывает широкие
перспективы их использования в качестве конструкционных материалов для космических применений.
Результаты работы опубликованы в журнале Applied Materials Today.
B.C. Kholkhoev, K.N. Bardakova, A.N. Nikishina, Z.A. Matveev, Y.M. Efremov, A.A. Frolova, A.A. Akovantseva, E.N.
Gorenskaia, N.A. Verlov, P.S. Timashev, V.F. Burdukovskii «4D-printing of mechanically durable high-temperature
shape memory polymer with good irradiation resistance» // Applied Materials Today, 2024, 36, 102022.
https://doi.org/10.1016/j.apmt.2023.102022.
Материал подготовлен при финансовой поддержке Минобрнауки России в рамках федерального проекта
«Популяризация науки и технологий»